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一. 光刻机概览

光刻为集成电路制造关键环节是指在特定波长光线的作用下将设计在掩膜版上的集成电路图形转移到硅片表面的光刻胶上的技术工艺

光刻机是芯片制造光刻环节的核心设备技术含量价值含量极高

光刻机制造难度极高以一台ASML EUV光刻机为例由来自全球近800家供应商的数十万个零件组成每个模块在ASML遍布全球的工厂中生产再运往荷兰总部组装

光刻机集精密光学机械和控制等众多最尖端技术于一身包括光源系统照明系统投影物镜系统双工件台系统以及传输系统调平调焦系统对准系统等

二. 光刻机国产进程

2023年初美日荷三国会晤计划联合制裁3月8日荷兰公告拟对华限制出口最先进的DUV光刻设备6月30日正式出台管制措施

EUV长期被限2024年高端浸没式也将断供我国光刻机仍受制于人仍是卡脖子最关键 环节实现高端光刻机的国产替代至关重要

我国光刻机攻尖采取类ASML的模式细分各科研院所高校做分系统再由SMEE进行整机组装中科院微电子所长光所上光所清华大学浙江大学哈工大等均参与光刻机的研发

上海微电子已完成90nm光刻机出货并加快浸没式设备研发


三. 光刻机国内零部件厂商

3.1 激光光源

1光学元件茂莱光学腾景科技炬光科技晶方科技

2光学镜头奥普光电福光股份波长光电

3光源科益虹源福晶科技

4清洗设备蓝英装备

3.2 结构件

1结构部件富创精密联合精密电科数字

3.3 物镜系统

1物镜赛微电子国科精密

3.4 双工作台和沉浸系统

1光掩膜版华润微路维光电清溢光电

2涂胶显影芯源微

作者:伏白的交易笔记

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