光刻机、光刻厂、半导体概念股最全梳理（附股）

一、光刻机中基本完成国产替代的

光刻胶原材料溶剂（百川股份）；

大陆自给率较高，产能占据全球总产量的35%左右。

光刻胶原材料单体（万润股份、瑞联新材）；

去胶设备（屹唐半导体）；

分选机（长川科技）；

固晶机（新益昌）；

切筋成型设备（文一科技，耐科装备）；

流量计（万业企业）；

金属机械类零部件（富创精密）；

光刻机双工件台（华卓精科）。

二、技术基本达到国际一流水平，产量还不能满足国内需求：

硅片（沪硅产业，中环股份，立昂微）；

电子级多晶硅（黄河水电，鑫华半导体）；

单晶炉（北方华创、连城数控，晶盛机电）；

光刻胶原材料光引发剂（强力新材、久日新材）；

强力新材是国内少数专营光刻胶原料生产的企业，兼具半导体光引发剂、LCD光引发剂和PCB光引发剂，2020年产能分别达到 80t/a、100t/a 和1400t/a。

抛光液（安集科技，鼎龙股份）；

安集科技在国内市场中占13%份额，当前的国内晶圆厂需求除了安集科技以外，主要依赖进口。在130-28nm技术节点实现规模化销售，14nm技术节点产品已进入客户认证阶段，10-7nm技术节点产品正在研发中，年产16000吨。

抛光液原材料磨粒（鼎龙股份）；

磨粒约占抛光液原材料成本的50%-70%

鼎龙股份目前实现了超纯硅溶胶，水玻璃硅溶胶、氧化铝三类研磨粒子的自主制备。

抛光垫（鼎龙股份）；

鼎龙股份在国内进展迅速，月产能约2万片/月，市占率约为50%。

引线框架（康强电子）；

引线框架原材料高端合金（博威合金）；

陶瓷基板（博敏电子）；

博敏电子AMB陶瓷衬板目前具备产能8万张/月，处于国内前列，后续随着设备不断投入及配合相关客户进行扩产，预计2023年有望达到15-20万张/月的产能规模。

芯片粘接材料（德邦科技）；

刻蚀设备（中微公司，北方华创）；

薄膜沉积设备（北方华创，中微公司，拓荆科技）；

清洗设备（盛美上海、北方华创、芯源微、至纯科技）；

抛光设备（华海清科）；

国内CMP设备的主要研发生产单位有华海清科（28nm，21年12英寸产能87台，8英寸产能6台）和北京烁科精微电子装备有限公司，其中华海清科是国产12英寸和8英寸CMP设备的主要供应商，是目前国内唯一实现了12英寸CMP设备量产销售的半导体设备供应商。

前道检测设备（精测电子）；

测试机（华峰测控，长川科技）；

2020年华峰测控/长川科技在国内模拟测试机占比为49.88%/24.08%，合计突破70%的市场份额。存储和soc设备正在突破中。

探针台（深圳矽电）；

晶圆减薄机，划片机（光力科技）；

引线键合机（新益昌，大族封测，奥特维）；

石英制品（菲利华）；

射频电源（英杰电气）；

真空汞（汉钟精机）；

阀门（新莱应材）；

新莱应材在半导体阀门已经能实现对海外零部件的替代，下游客户包括国内外知名的半导体设备厂商，并与制造公司长江存储、合肥长鑫等在高端真空阀门等产品方面也有深入合作。

刻蚀用硅部件（神工股份）；

光学镜片原材料光学玻璃（奥普光电）。

三、仅能替代部分或者中低端产品，技术与国外有一定差距：

电子特种气体（金宏气体，华特气体，派瑞特气等）；

注：特种气体中国仅能生产约20%的品种，主要集中在集成电路的清洗、蚀刻、光刻等工艺环节，掺杂、沉积等工艺的特种气体仅有少部分品种取得突破。

光刻胶（彤程新材，晶瑞电材）；

北京科华（彤程新材）可量产g/i线光刻胶、KrF光刻胶

晶瑞电材可量产g/i线光刻胶。

光刻胶原材料树脂（圣泉集团、彤程新材、强力新材）；

光掩模板（清溢光电）；

湿电子化学品（江化微、格林达）；

湿电子化学品专业供应商，产品种类丰富且毛利率高，主要企业代表为江化微、格林达等

靶材（江丰电子、有研新材）;

江丰电子（铝靶、钛靶、钽靶）

有研新材（铜靶、钴靶）是国内半导体用溅射靶材的龙头企业。

封装基板（深南电路，兴森科技）；

键合丝（康强电子）；

光刻机（上海微电子）；

离子注入设备（万业企业）；

涂胶显影设备（芯源微）；

塑封机（文一科技，耐科装备）；

静电吸盘（华卓精科）；

光刻机零部件光源（福晶科技）；

光刻机零部件光学镜片（国科精密）。

四、同步辐射光源与光刻场

四代同步辐射光源可以输出更短波长的EUV光，甚至可以实现3纳米的波长，这是一项令人振奋的技术突破。

根据中国科学院高能物理研究所的消息，国家重大科技基础设施高能同步辐射光源（HEPS）的直线加速器已于6月5日通过工程指挥部组织的工艺验收。HEPS直线加速器是电子的源头和一级加速器，建设团队精心规划，认真组织，几乎按计划完成了建设任务。潘卫民，HEPS工程总指挥，表示为了优化直线加速器束流参数、提高增强器和储存环的建设效率，更好地完成HEPS装置建设任务，工程指挥部加强了过程管理，组织了专项工艺测试和验收。这一成就标志着中国在同步辐射光源技术领域取得了显著进展。

投资机会：

东方钽业在粒子加速器领域发挥关键作用，其铌金属在高能同步辐射光源（HEPS）、加速器驱动嬗变研究装置（CiADS）、硬 X 射线自由电子激光装置（SHINE）、强流重离子加速器装置（HIAF）等国家大科学装置中被广泛应用，具有卓越的超导性能。

中广核技的子公司，中科海维研（现更名为广核辐照技术），成功研发上海光源（SSRC）加速管，成为国内首家实现高科技产品产业化的企业，并将其产品出口至巴西国家重大科研项目——“巴西光源”。

国光电气中标中国科学院高能物理研究所高能同步辐射光源（HEPS）的高次模抑制器，为该重要科研项目提供支持。

宝胜股份中标中国科学院高能物理研究所HEPS的电线电缆供应。

长飞光纤的光缆产品被采用于中国科学院高能物理研究所的高能同步辐射光源（HEPS）项目。

英杰电气中标高能同步辐射光源（HEPS）的调功柜，为该项目提供支持。

清华光刻工厂概念

粒子加速器(中广核技、国力股份，粒子加速器相当于光的动力装置）--- > 高能同步辐射光源。

-射频腔：东方钽业、西部材料；

-高次模抑制器：国光电气

-HEPS特种电缆：宝胜股份

-同步辐射科学仪器：必创科技