8月底是手机的神奇时刻，11月底是光刻机的神奇时刻。
光刻机由三个核心系统和数万个部件组成，是顶级公司在产业链各个环节合作的结果。1)光源方面，DUV采用Cymer和Gigaphoton手中的准分子激光器，国内科益虹源打破垄断；UV光源以高功率CO2激光器轰击Sn滴为核心组件。2）光学系统是光刻机分辨率成像的保证。它由照明系统和物镜系统组成。照明系统优化成像过程，提高分辨率；投影物镜系统专注于掩模图形成像。ZEISS是ASML关键光学元件的独家供应商，国内技术水平仍存在较大差距。三、双工件台系统有效地提高了光刻精度和效率，华卓精科和清华大学的国内团队走在了前列。
光刻的重要性越来越明显，国内迫切需要0→1的突破。半导体行业在过去的十年里翻了一番。晶圆厂积极扩大生产，提升芯片性能和光刻强度。预计5nm逻辑芯片光刻支出占35%。光刻工艺的重要性越来越突出，市场规模迅速增长。预计2024年将达到230亿美元，ASML在高端市场独树一帜。2022年，中国大陆光刻机进口约40亿美元，主要从日本和荷兰进口。在出口管制下，光刻机存在供不应求的隐忧，必须独立控制。依托全国的力量，汇聚各科研院所所长，现有阶段性成果陆续落地。随着光刻机产业化的临近，零部件投资处于领先地位。我们估计，国内零部件市场空间约150亿元，市场空间大，技术关键性强。
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1)光刻机部件:福晶科技、奥普光电、茂莱光学、福光股份、聚光科技、腾景科技、苏大维格、华卓精科(未上市)等。
2)光刻机周边配套设施:美埃科技、蓝英装备、芯源微、微导纳米等。
3)光刻机相关材料:华茂科技、桐城新材料、清溢光
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