ASML首席执行官6月7日公开表示，美国严格的芯片控制规定只会迫使中国制造商取得更快的进展。
国内替代自主可控是必要的！最近，国家三期大型基金成立！规模大于一期和二期，这也意味着政策层面的大力支持。回顾国家大型基金一期和二期发行后的时间节点，半导体市场诞生了。当然，这个半导体市场也值得期待！
2014年，第一阶段专注于制造业，为半导体的国内替代做准备，为中芯国际、长江存储等核心公司的后期成长奠定了基础。2019年，第二阶段更加精细化，主要集中在半导体设备、材料、EDA等上游领域，特别是原有技术缺口。2024年，三期，预计将进一步细化，加大对高端工艺的投入。首先，关键技术的突破包括核心设备和材料，如光刻机和光刻胶；第二，人工智能相关技术的突破，特别是人工智能芯片和HBM，是国内计算能力基础的瓶颈。题材逻辑说
以下a股光刻机相关公司梳理
张江高科技：通过子公司战略投资设备有限公司持有其重要股权，致力于推动“中国核心”国内光刻机的重大技术突破和产业化进程。
奥普光电：奥普光电的控股股东是长春光学精密机械与物理研究所，正在开发更高水平的光刻机曝光系统。
国林科技:子公司国林半导体臭氧设备产品自2022年下半年以来已在半导体、面板、科研等行业发货验证。该产品用于化学气相沉积（CVD）、原子层膜沉积（ALD）、在去除晶圆清洗、污染物和光刻胶的过程中。
富乐德：已开发批量生产14nm工艺洗涤工艺，并为光刻环节的溶胶显影、涂胶等设备提供精密洗涤服务。
新莱应材:公司真空产品Advantorr品牌和气体产品Nanopure品牌均可应用于光刻机设备，公司客户已包括光刻机设备制造商。
同飞股份有限公司液体恒温设备主要用于半导体制造设备领域的光刻机、刻蚀机PVD/CVD、研磨抛光机等关键设备的温度控制。
茂莱光学：公司为光刻机光学系统提供光学器件、投影物镜和工件台位移测量系统的棱镜组件，用于均匀光和中继照明模块。它是光刻机实现光均匀性和曝光成像的关键模块。
京华激光：公司控股的美国菲涅尔制版技术公司是一家从事微结构光学技术研发及相关设备制造维护多年的企业。在微结构光学方面具有较强的研发实力，特别是在全息光学、菲涅尔猫眼、水晶微结构、浅纹微结构、铂浮雕等方面，先后开发了多种技术先进、性能突出、与光学制版相关的光刻机设备，并在全球独家供应公司使用。
波长光电：在半导体应用领域，公司有能力提供配套的大孔径光学镜头。公司成功开发的平行光源系统可用于国内光刻机领域的配套设施，并已交付多个系统用于接近覆盖芯片光刻工艺。
晶方科技:公司下属荷兰ANTERYON公司为国际领先的光刻机制造商服务，部分产品用于光刻机部件。
东方嘉盛:公司上半年向深圳海关申请设立寄售维修保税仓库，已获批。7月初，公司中标，将与国际头芯片光刻机厂商合作，在深圳建设寄售维修保税仓库，为华南集成电路厂商提供全天候快速响应的光刻机寄售维修服务。
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